삼불화질소(NF3) 고순도 가스
기본정보
| 카스 | 7783-54-2 |
| EC | 232-007-1 |
| UN | 2451 |
이 자료는 무엇입니까?
삼불화질소(NF3)는 실온 및 대기압에서 무색, 무취의 기체입니다. 적당한 압력 하에서 액화될 수 있습니다. NF3는 정상적인 조건에서 안정적이며 쉽게 분해되지 않습니다. 그러나 고온에 노출되거나 특정 촉매가 있는 경우 분해될 수 있습니다. NF3는 대기 중으로 방출될 때 지구 온난화 지수(GWP)가 높습니다.
이 자료를 어디에 사용하나요?
전자 산업 세척제: NF3는 반도체, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP) 및 기타 전자 부품 표면에서 산화물과 같은 잔류 오염 물질을 제거하기 위한 세척제로 널리 사용됩니다. 표면을 손상시키지 않고 효과적으로 청소할 수 있습니다.
반도체 제조 공정에서 에칭 가스: NF3는 반도체 제조 공정에서 에칭 가스로 사용됩니다. 특히 집적회로 제조에 사용되는 일반적인 재료인 이산화규소(SiO2)와 질화규소(Si3N4)를 에칭하는 데 효과적입니다.
고순도 불소 화합물 생산: NF3는 다양한 불소 함유 화합물 생산을 위한 귀중한 불소 공급원입니다. 이는 불소중합체, 탄화불소 및 특수 화학물질 생산 시 전구체로 사용됩니다.
평면 패널 디스플레이 제조 시 플라즈마 생성: NF3는 LCD(액정 디스플레이) 및 PDP와 같은 평면 패널 디스플레이 생산 시 플라즈마를 생성하기 위해 다른 가스와 함께 사용됩니다. 플라즈마는 패널 제조 중 증착 및 에칭 공정에 필수적입니다.
이 재료/제품의 사용에 대한 특정 적용 및 규정은 국가, 산업 및 목적에 따라 다를 수 있습니다. 어떤 용도로든 이 재료/제품을 사용하기 전에 항상 안전 지침을 따르고 전문가와 상담하십시오.
